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Science 最新倒置鈣鈦礦!
2023-12-29

【研究背景】鈣鈦礦太陽(yáng)能電池作為新興的光伏轉(zhuǎn)換技術(shù),具有巨大的發(fā)展?jié)摿?。但是其穩(wěn)定性仍然存在挑戰(zhàn)。相比常規(guī)的n-i-p結(jié)構(gòu)太陽(yáng)電池,p-i-n幾何結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化了制作工藝,更適合安排電荷傳輸層,也降低了工藝溫度。自組裝單層可以增強(qiáng)p-i-n結(jié)構(gòu)電...

  • 2023-06-27

    加州大學(xué)洛杉磯分校(UCLA)的楊揚(yáng)教授領(lǐng)導(dǎo)的研究團(tuán)隊(duì)在太陽(yáng)能領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展。他們專(zhuān)注于開(kāi)發(fā)高效光伏材料甲酰胺鉛碘(FAPbI3)鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,研究結(jié)果於2023年6月21日被發(fā)表在《NATURE》。盡管在室溫下結(jié)晶過(guò)程中存在不希望出現(xiàn)的黃色相,但該團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)出一種定向成核機(jī)制來(lái)避免這些相并提高裝置性能。他們的創(chuàng)新方法使得裝置達(dá)到了25.4%的功率轉(zhuǎn)換效率(認(rèn)證為25.0%)。更令人驚艷的是,該模組在27.83平方公分的面積上,達(dá)到了21.4%的認(rèn)證開(kāi)路效率。該研究使用...

  • 2023-06-20

    鈣鈦礦太陽(yáng)能電池中鉛的毒性問(wèn)題引發(fā)了人們的擔(dān)憂。鉛的使用對(duì)環(huán)境和人類(lèi)健康構(gòu)成威脅。盡管鉛在地殼中天然存在,但過(guò)去幾個(gè)世紀(jì)的人類(lèi)活動(dòng),如采礦、汽油、油漆和電子產(chǎn)品中的鉛使用,導(dǎo)致了與鉛接觸相關(guān)的風(fēng)險(xiǎn)的增加。為了降低這些風(fēng)險(xiǎn),鉛的使用受到嚴(yán)格的監(jiān)管,并制定了特定的限制措施。然而,現(xiàn)有的立法并未明確提及基于鈣鈦礦的電子產(chǎn)品,因此,迫切需要對(duì)這些材料的風(fēng)險(xiǎn)進(jìn)行評(píng)估,以確保鈣鈦礦電子產(chǎn)品的安全性和可持續(xù)性創(chuàng)新。最近,南京工業(yè)大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)與AntonioAbate、MichaelGr?...

  • 2023-06-19

    在光電領(lǐng)域,量子產(chǎn)率(PLQY)是一項(xiàng)至關(guān)重要的參數(shù)。對(duì)于那些對(duì)此領(lǐng)域充滿熱情和挑戰(zhàn)的研究者來(lái)說(shuō),選擇一款可靠、精細(xì)、易于操作的光致發(fā)光量子產(chǎn)率量測(cè)系統(tǒng)就顯得至關(guān)重要。光焱科技Enlitech研發(fā)的LQ-100X-PL就是為滿足這些需求而生,LQ-100X-PL適用的研究領(lǐng)域廣泛,包括熒光粉、LED熒光材料、OLED熒光材料、鈣鈦礦、雷射染料、鈣鈦礦量子點(diǎn)粉末與單晶、PbS量子點(diǎn)等。每一個(gè)優(yōu)秀的研究團(tuán)隊(duì)都明白,最重要的工作不是組裝測(cè)量?jī)x器,而是進(jìn)行實(shí)質(zhì)的科學(xué)研究。是時(shí)候停止使...

  • 2023-06-15

    分子摻雜工藝:研究人員引入了一種使用二甲基胺基摻雜劑的分子摻雜工藝,該工藝能夠創(chuàng)建一個(gè)與p-鈣鈦礦/ITO接觸良好且能夠鈍化晶界的結(jié)構(gòu)。這種創(chuàng)新工藝提高了鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的功率轉(zhuǎn)換效率(PCE),實(shí)現(xiàn)了經(jīng)認(rèn)證的25.39%的PCE,這是對(duì)鈣鈦礦太陽(yáng)能電池現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)的改進(jìn)。分子擠壓技術(shù):該工藝采用了一種“分子擠壓”方法,在甲苯淬滅結(jié)晶過(guò)程中將分子從前驅(qū)體溶液排出到晶界和薄膜底部。這種技術(shù)導(dǎo)致了鈣鈦礦薄膜的p-摻雜,有助于提高器件的效率。長(zhǎng)壽命和高效率:器件在逆向掃描時(shí)實(shí)現(xiàn)了25....

  • 2023-06-13

    內(nèi)行一看就懂:Enlitech的SG-A量子效率檢測(cè)與傳統(tǒng)CIS缺陷檢測(cè)有何不同?常見(jiàn)的傳統(tǒng)非破壞性缺陷檢測(cè)方法有兩種:AOI檢測(cè)成像質(zhì)量檢測(cè)AOI檢測(cè)的原理:AOI檢測(cè)(AutomaticOpticalInspection)是一種利用光學(xué)成像技術(shù)對(duì)CIS影像芯片進(jìn)行缺陷檢測(cè)的方法。該系統(tǒng)包含一個(gè)主動(dòng)光源,將光照射到CIS影像芯片表面上,透過(guò)光線的反射,被相機(jī)鏡頭收集,形成CIS表面影像。這個(gè)影像可以通過(guò)影像辨識(shí)軟件進(jìn)行分析和處理,自動(dòng)辨識(shí)CIS芯片表面缺陷。AOI檢測(cè)的優(yōu)點(diǎn)...

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